溅射镀膜和真空镀膜相比有何特点

高性能镀膜技术的选择溅射镀膜vs真空镀膜

在选择高性能镀膜技术时，溅射镀膜和真空镀膜是两种常见的选项。这两种技术都在工业和科技领域广泛应用，各有其特点和适用场景。下面将对它们进行详细比较，帮助您了解何时选择哪种技术。 1. 溅射镀膜（Sputtering）溅射镀膜是一种通过溅射金属靶材来沉积薄膜的技术。它的工作原理是在真空室中通过加速带电粒子（通常是氩离子）击打金属靶材，使靶材表面的原子或分子释放出来，然后沉积在基板上形成薄膜。优点：薄膜均匀性好，厚度易于控制。可以实现复杂合金和多层膜的镀覆。沉积速率较高，适合大面积和高生产率需求。可以镀覆大部分材料，包括...